染色敏感性太陽能電池狹縫式涂布試驗機簡單介紹：

狹縫(feng)式涂(tu)(tu)布(bu)試(shi)驗機由山東安尼麥特(te)儀(yi)器有(you)限(xian)公司精(jing)心研(yan)制高精(jing)度(du)精(jing)密型涂(tu)(tu)布(bu)試(shi)驗機，本(ben)機主要(yao)應用(yong)于(yu)(yu)蓋板玻璃的各種涂(tu)(tu)膠作業而開發設計的專用(yong)裝置(zhi)，同時(shi)也可以(yi)用(yong)于(yu)(yu)其他類(lei)似材料(liao)的涂(tu)(tu)布(bu)。本(ben)涂(tu)(tu)布(bu)試(shi)驗機，底(di)板采用(yong)微(wei)孔(kong)陶(tao)瓷吸附平臺，同時(shi)采用(yong)非接觸式狹縫(feng)式涂(tu)(tu)布(bu)頭，通過進料(liao)壓力，狹縫(feng)寬度(du)調節，以(yi)及狹縫(feng)頭與(yu)底(di)板間(jian)隙(xi)三個因數控制濕膜(mo)厚度(du)，同時(shi)軟件系統(tong)增(zeng)加了高度(du)調節與(yu)反饋系統(tong)，大大提(ti)高了涂(tu)(tu)布(bu)精(jing)度(du)與(yu)均(jun)勻(yun)性。

應用場景(jing)：針(zhen)對微米級(ji)特別(bie)是納米及亞微米級(ji)功能性(xing)涂層的涂布(bu)試驗、墨水調試、工藝研究(jiu)、小規模制(zhi)樣研發等。

涉及(ji)行業：包括(kuo)水(shui)凝膠(jiao)、液態金屬、智能(neng)包裝材(cai)(cai)料、光(guang)電(dian)材(cai)(cai)料、光(guang)刻膠(jiao)、功能(neng)涂(tu)層、微電(dian)子(zi)及(ji)半導(dao)體封裝等大(da)面積涂(tu)布制(zhi)備(bei)，以及(ji)氫燃料電(dian)池膜電(dian)極(ji)(ji)、電(dian)解水(shui)制(zhi)氫膜電(dian)極(ji)(ji)、鋰(li)電(dian)池、各種活性(xing)(xing)催化劑、異質(zhi)結太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)池、薄膜太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)池、鈣(gai)鈦礦太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)池、有機太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)池、OLED柔性(xing)(xing)穿戴器(qi)件、有機場(chang)效應晶體管(guan),導(dao)電(dian)聚(ju)合物,納(na)米線和納(na)米管(guan),二(er)維材(cai)(cai)料,有機發光(guang)二(er)極(ji)(ji)管(guan)和鈣(gai)鈦礦發光(guang)二(er)極(ji)(ji)管(guan)、鈣(gai)鈦礦光(guang)伏(fu)電(dian)池、鋰(li)離子(zi)電(dian)池的電(dian)解質(zhi)和電(dian)極(ji)(ji)、染色敏感性(xing)(xing)太(tai)陽(yang)能(neng)電(dian)池、電(dian)子(zi)皮膚等器(qi)件的制(zhi)備(bei)。

由于常規實驗(yan)室(shi)涂(tu)(tu)(tu)布(bu)(bu)試驗(yan)機(ji)，受到刮刀調節，底板平整(zheng)度(du)等的影(ying)響很難達到涂(tu)(tu)(tu)布(bu)(bu)納米級膜，狹縫(feng)式涂(tu)(tu)(tu)布(bu)(bu)試驗(yan)機(ji)，底板采用檢(jian)驗(yan)級大(da)理(li)石(shi)平臺，同(tong)時(shi)采用非(fei)接(jie)觸式狹縫(feng)式涂(tu)(tu)(tu)布(bu)(bu)頭，通過(guo)進料壓力，狹縫(feng)寬度(du)調節，以及狹縫(feng)頭與(yu)底板間隙(xi)三個因(yin)數控制(zhi)濕膜厚度(du)，同(tong)時(shi)軟件系統增加了高度(du)調節與(yu)反饋系統，大(da)大(da)提高了涂(tu)(tu)(tu)布(bu)(bu)精(jing)度(du)與(yu)均勻(yun)性。在國(guo)內(nei)光學膜涂(tu)(tu)(tu)布(bu)(bu)實驗(yan)室(shi)研發打樣(yang)階段得到了廣泛的應(ying)用。

染色敏感性太陽能電池狹縫式涂布試驗機技術參數 

1.狹(xia)縫擠(ji)出(chu)頭材質：不(bu)銹鋼

2.狹(xia)縫擠出頭涂(tu)布寬(kuan)度：10-50mm

3.狹縫擠出墊片厚度(du):100 μm

3.狹縫擠出墊(dian)片(pian)套裝:5 個(ge) 50毫米寬墊(dian)片(pian)或(huo)5 個(ge) 25毫米寬的墊(dian)片(pian)

4.電熱板溫度:120°C

5.行程長度:10-100mm

6.平臺速度:100 μm.s-1

7.最高平臺速度:50 mm s - 1

8.注射器(qi)速度(du):12 μm.s-1

9.最高注(zhu)射速度:5 mm.s-1

10.涂布頭與基片之(zhi)間最大活動距離(li):13 mm

11.管(guan)道和接(jie)頭材(cai)質(zhi):聚四(si)氟乙烯管(guan)，高密度PP魯爾接(jie)口鎖(suo)定連(lian)接(jie)器、不銹(xiu)鋼魯爾接(jie)口連(lian)接(jie)器至螺紋連(lian)接(jie)件(jian)

12.電源參數(shu)：100 - 240 V 50Hz

13.尺寸規格:380 mm x 330 mm x 220 mm

14.重(zhong)量(liang)：30kg

產品(pin)特點 

1.集成(cheng)度(du)高-可(ke)以(yi)通(tong)過將涂(tu)布機(ji)集成(cheng)到(dao)一個在線系統中，以(yi)達到(dao)提升產(chan)量、大(da)幅度(du)降(jiang)低薄膜電(dian)子設備的整體生產(chan)成(cheng)本。

2.簡單可靠—狹縫擠出式涂布是(shi)(shi)一種(zhong)的制(zhi)造薄濕膜片的技術，多米長度(du)(du)涂層(ceng)厚度(du)(du)變化小于2%。涂層(ceng)厚度(du)(du)是(shi)(shi)通(tong)過改變溶液流量、基片速度(du)(du)進行控制(zhi)。通(tong)過對幾個(ge)不同幾何參數的設(she)置可以降低(di)涂層(ceng)缺陷的機率(不改變涂層(ceng)厚度(du)(du))。

3.適(shi)合(he)研(yan)(yan)(yan)究領域應用(yong)—盡管狹(xia)縫(feng)擠(ji)出(chu)(chu)式涂(tu)布是一(yi)項非常強(qiang)大的(de)(de)(de)技術(shu)，但在(zai)薄膜(mo)電子應用(yong)領域的(de)(de)(de)研(yan)(yan)(yan)究和開(kai)發目前非常有(you)限。因為(wei)(wei)它主(zhu)要(yao)是一(yi)項工(gong)(gong)業(ye)技術(shu)，即使(shi)(shi)的(de)(de)(de)系統(tong)價格也(ye)很(hen)高，因為(wei)(wei)狹(xia)縫(feng)擠(ji)出(chu)(chu)式涂(tu)布機(ji)的(de)(de)(de)制(zhi)造(zao)商定(ding)位的(de)(de)(de)是工(gong)(gong)業(ye)領域而非學術(shu)界。此(ci)外，這(zhe)些(xie)常規(gui)的(de)(de)(de)涂(tu)布系統(tong)通(tong)常很(hen)大、很(hen)復雜，對于剛剛開(kai)始沉積薄膜(mo)開(kai)發所需(xu)的(de)(de)(de)處理技術(shu)的(de)(de)(de)科(ke)研(yan)(yan)(yan)人員來說并(bing)不適(shi)合(he)。狹(xia)縫(feng)擠(ji)出(chu)(chu)式涂(tu)布機(ji)形體小巧(qiao)，操(cao)作方(fang)便，適(shi)合(he)在(zai)實(shi)驗室使(shi)(shi)用(yong)，這(zhe)使(shi)(shi)科(ke)研(yan)(yan)(yan)人員在(zai)實(shi)驗室中(zhong)使(shi)(shi)用(yong)狹(xia)縫(feng)擠(ji)出(chu)(chu)式涂(tu)布機(ji)成為(wei)(wei)可能，并(bing)使(shi)(shi)科(ke)研(yan)(yan)(yan)人員能夠優化溶劑(ji)配方(fang)和工(gong)(gong)藝參數(shu)—而不需(xu)要(yao)大量的(de)(de)(de)打印運行(xing)。狹(xia)縫(feng)擠(ji)出(chu)(chu)式涂(tu)布將有(you)助于研(yan)(yan)(yan)究人員確保(bao)他(ta)們的(de)(de)(de)研(yan)(yan)(yan)究結(jie)果在(zai)實(shi)際大規(gui)模應用(yong)中(zhong)的(de)(de)(de)落(luo)地。