鈣鈦礦實驗室小型涂布機由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制的，適用于各種材料的實驗室打樣設備，同時可以選配增加真空吸附，上端加熱等輔助功能。

  由于影響涂膜的主要因素有涂布速度以及施加在涂膜器上的壓力等，因而由人工涂出的涂層經常出現不一致，尤其是不同人之間產生的差異就更大了，這就給比較樣板之間的測試結果帶來了困難。本款涂布試驗機自動涂布，涂布速度可調，涂布壓力量化可調。從而在根本上解決了，手工涂布的缺點。可以涂布出重復性好，涂膜厚度準確的濕膜。從而為對涂層的各項指標測量與研究提供了穩定的涂層試樣。
鈣鈦礦實驗室小型涂布機技術參數

1.涂布方式(shi)：線棒/可調(diao)刮(gua)刀   

2.涂布速度(du)：1-2000mm/min  任意設(she)定(ding)   0-9000mm/min 可選(xuan)

3.有效(xiao)涂布尺寸：300×400mm；

4.涂布厚度范圍：10-3000um

5.涂布距離控制：1-400mm 范圍內(nei)數(shu)字(zi)任(ren)意設定

6.加壓方(fang)式：砝碼式

7.砝碼重(zhong)量：   4X250g

8.加(jia)持方式：機械夾子  

9.控(kong)制方式：觸摸屏

10.涂(tu)布棒規格：1.5-200微米之(zhi)間(jian)任意(yi)選(xuan)配(pei) （任意(yi)選(xuan)配(pei)1根）

11.主機使用(yong)電(dian)源：220V/50Hz

12.功率：550W

13.外形(xing)參數：600X350X300mm

14.重量：65Kg

選配裝(zhuang)置參數

1真空(kong)板(ban)尺(chi)寸(cun)：300×400 mm；

2.帶真(zhen)空(kong)(kong)吸附真(zhen)空(kong)(kong)泵配置(zhi)方式：外(wai)置(zhi)與內置(zhi)可(ke)(ke)選 （建議配置(zhi)外(wai)置(zhi)真(zhen)空(kong)(kong)泵這樣可(ke)(ke)以避免泵的(de)運動對涂(tu)布試驗的(de)影(ying)響）

3.真空吸附孔徑：0.6mm

4.上(shang)端(duan)加熱方式：紅外熱風(feng)循環式

5.上端加(jia)熱功(gong)率：1000W

6.溫度(du)顯(xian)示精度(du)：1度(du)

7.底板(ban)加熱方式(shi)(shi)：一體(ti)式(shi)(shi)加熱板(ban)式(shi)(shi)

8.底板加熱功率(lv)：2500W

9.主機(ji)使用電源：220V/50Hz

10.涂布(bu)復合功能(neng)：可選

11.復合(he)膜(mo)軸(zhou)直(zhi)徑(jing)：φ20mm 可(ke)定制

12.復合壓(ya)力：固(gu)定(ding)砝碼(ma)/壓(ya)力可調結構    可選

13.上料方式：框(kuang)型(xing)上料槽/可編程自動上料機構