有機場效應晶體管狹縫式涂布試驗機簡單介紹:

狹(xia)縫(feng)(feng)式涂(tu)(tu)布試(shi)驗(yan)機(ji)由山東安尼麥特(te)儀器有(you)限公司精(jing)心研制高(gao)精(jing)度(du)精(jing)密型涂(tu)(tu)布試(shi)驗(yan)機(ji)，本機(ji)主(zhu)要應用于蓋(gai)板(ban)玻璃的(de)各種涂(tu)(tu)膠作業(ye)而開發設計的(de)專用裝置，同(tong)時也可以用于其他類似材料(liao)的(de)涂(tu)(tu)布。本涂(tu)(tu)布試(shi)驗(yan)機(ji)，底板(ban)采(cai)(cai)用微孔陶瓷吸附平(ping)臺，同(tong)時采(cai)(cai)用非接觸式狹(xia)縫(feng)(feng)式涂(tu)(tu)布頭，通過(guo)進料(liao)壓(ya)力，狹(xia)縫(feng)(feng)寬度(du)調節，以及狹(xia)縫(feng)(feng)頭與(yu)底板(ban)間隙三個因數控(kong)制濕(shi)膜厚度(du)，同(tong)時軟件(jian)系統增加了高(gao)度(du)調節與(yu)反饋系統，大大提高(gao)了涂(tu)(tu)布精(jing)度(du)與(yu)均勻性(xing)。

應用場景(jing)：針對微米級(ji)特(te)別(bie)是納米及(ji)亞微米級(ji)功能(neng)性涂(tu)層的涂(tu)布試(shi)驗、墨(mo)水(shui)調試(shi)、工藝(yi)研究、小(xiao)規模制樣研發等。

涉及行業：包(bao)括水凝膠(jiao)(jiao)、液態金屬、智能(neng)包(bao)裝材(cai)料(liao)(liao)、光(guang)電(dian)(dian)(dian)(dian)材(cai)料(liao)(liao)、光(guang)刻膠(jiao)(jiao)、功能(neng)涂層、微電(dian)(dian)(dian)(dian)子及半導體封(feng)裝等大面積(ji)涂布制備，以(yi)及氫(qing)燃料(liao)(liao)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)膜電(dian)(dian)(dian)(dian)極(ji)(ji)、電(dian)(dian)(dian)(dian)解水制氫(qing)膜電(dian)(dian)(dian)(dian)極(ji)(ji)、鋰電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)、各(ge)種活性催化劑(ji)、異(yi)質結太(tai)陽(yang)(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)、薄膜太(tai)陽(yang)(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)、鈣(gai)鈦(tai)(tai)礦太(tai)陽(yang)(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)、有機(ji)(ji)太(tai)陽(yang)(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)、OLED柔性穿戴器(qi)件、有機(ji)(ji)場效應晶體管,導電(dian)(dian)(dian)(dian)聚合(he)物,納米線和(he)納米管,二(er)維材(cai)料(liao)(liao),有機(ji)(ji)發光(guang)二(er)極(ji)(ji)管和(he)鈣(gai)鈦(tai)(tai)礦發光(guang)二(er)極(ji)(ji)管、鈣(gai)鈦(tai)(tai)礦光(guang)伏電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)、鋰離子電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)的(de)電(dian)(dian)(dian)(dian)解質和(he)電(dian)(dian)(dian)(dian)極(ji)(ji)、染色敏感性太(tai)陽(yang)(yang)能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池(chi)、電(dian)(dian)(dian)(dian)子皮膚(fu)等器(qi)件的(de)制備。

  由于(yu)常規實驗(yan)室(shi)涂布試驗(yan)機，受到刮刀調(diao)節，底(di)板(ban)平整度等的影(ying)響很難達到涂布納米級膜(mo)，狹縫式(shi)涂布試驗(yan)機，底(di)板(ban)采用(yong)檢驗(yan)級大理(li)石平臺，同(tong)時(shi)采用(yong)非接觸式(shi)狹縫式(shi)涂布頭，通過進料壓力(li)，狹縫寬(kuan)度調(diao)節，以(yi)及狹縫頭與(yu)底(di)板(ban)間隙(xi)三個(ge)因數(shu)控(kong)制(zhi)濕(shi)膜(mo)厚度，同(tong)時(shi)軟(ruan)件系(xi)統增加了高(gao)度調(diao)節與(yu)反饋系(xi)統，大大提(ti)高(gao)了涂布精度與(yu)均勻(yun)性。在(zai)國內光學膜(mo)涂布實驗(yan)室(shi)研發(fa)打樣階段得到了廣(guang)泛的應用(yong)。

有機場效應晶體管狹縫式涂布試驗機技術參數 

1. 產品型(xing)號(hao)：    AT-XTB-3040A

2.涂(tu)布方式(shi)(shi)：狹(xia)縫式(shi)(shi)涂(tu)布頭

3.涂布速度：1-30mm/s  任意設定

4.控制(zhi)方式: 觸摸屏

5.涂(tu)布(bu)濕膜(mo)厚度(du)(du)范圍： 2-100um   （根(gen)據涂(tu)布(bu)速(su)度(du)(du)和涂(tu)布(bu)液(ye)粘度(du)(du)涂(tu)布(bu)范圍不同

6.干膜厚度(du)范圍(wei)：  50nm-1000nm  (根據固含量不同干膜厚度(du)范圍(wei)有(you)偏差(cha)）

7.涂布固含(han)量范圍：1-70%

8.粘(zhan)度范圍(wei)：1-300CPS

9.均勻性：4-6%

10.涂布寬度范(fan)圍：10-260mm

11.涂布頭(tou)與(yu)底板距離調節精度：0.002mm

12.加熱溫(wen)度(du)范(fan)圍：室(shi)溫(wen)-150度(du)

13.加熱板功率：2000w

14.涂(tu)布頭產(chan)地：國(guo)產(chan) （可以定制進口涂(tu)布頭）

15. 氣(qi)源(yuan)壓力：0.6MPa

16. 涂布(bu)頭(tou)與底(di)板間隙調(diao)節方(fang)式(shi)：手動調(diao)節/自動調(diao)節/自動調(diao)節帶反饋（調(diao)節方(fang)式(shi)客(ke)戶根據自己需要選配）

17. 試樣加持方式(shi)：機(ji)械(xie)固定/吸(xi)附固定（客(ke)戶(hu)根據自(zi)己需要(yao)選配）

18. 設(she)備總(zong)功(gong)率：2500W

19.設備尺寸：750mmX400mmX450mm

20.涂布平臺尺寸：300X300mm

21.電源電壓：220V  50 Hz

產品特點 

1.采(cai)用滾珠絲杠傳動，運行平穩性更(geng)好(hao)

2.速度數(shu)字化可調，可以根據(ju)需要選擇合適的速度.

3.高精度國產(chan)涂布(bu)頭，加料方便，涂布(bu)精度高，均勻性好

4.采(cai)用檢驗級(ji)大理石平臺，平整度好，可以達到(dao)微米級(ji)別(bie)。

觸摸屏(ping)控制，自動(dong)化程度高，涂(tu)(tu)布距離可設定(ding)，有(you)效(xiao)保證了涂(tu)(tu)布試樣的尺寸