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更新時間: 2023-06-01
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產品特點: AT-XTB-1050A工藝研(yan)究涂(tu)布(bu)試驗(yan)機(ji)由(you)山(shan)東安尼麥(mai)特儀(yi)器有限(xian)公司精心研(yan)制高精度(du)(du)精密型涂(tu)布(bu)試驗(yan)機(ji),本機(ji)主要應用于蓋板玻璃(li)的各種涂(tu)膠作業而(er)開發設計的專用裝置,同(tong)時也可以(yi)用于其他類似(si)材料(liao)的涂(tu)布(bu)。本涂(tu)布(bu)試驗(yan)機(ji),底板采用微孔陶瓷吸附平(ping)臺,同(tong)時采用非接觸式(shi)(shi)狹縫式(shi)(shi)涂(tu)布(bu)頭(tou),通過進(jin)料(liao)壓力,狹縫寬度(du)(du)調(diao)(diao)節,以(yi)及(ji)狹縫頭(tou)與底板間隙三個(ge)因數控制濕膜厚(hou)度(du)(du),同(tong)時軟件(jian)系(xi)統(tong)增加(jia)了高度(du)(du)調(diao)(diao)節與反饋系(xi)統(tong),大(da)大(da)提(ti)高了涂(tu)布(bu)精度(du)(du)與均勻性。
AT-XTB-1050A工藝研究涂布試驗機由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機,本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業而開發設計的專用裝置,同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機,底板采用微孔陶瓷吸附平臺,同時采用非接觸式狹縫式涂布頭,通過進料壓力,狹縫寬度調節,以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度,同時軟件系統增加了高度調節與反饋系統,大大提高了涂布精度與均勻性。
應(ying)用場景:針對微米(mi)級(ji)特(te)別是納米(mi)及(ji)亞微米(mi)級(ji)功(gong)能性涂層(ceng)的涂布試(shi)驗(yan)、墨水(shui)調試(shi)、工藝研究、小(xiao)規模制樣研發等。
涉(she)及(ji)行業:包(bao)括(kuo)水凝膠(jiao)、液態金屬(shu)、智能(neng)包(bao)裝材料、光電(dian)材料、光刻膠(jiao)、功能(neng)涂(tu)層、微(wei)電(dian)子(zi)及(ji)半導體封裝等大面積涂(tu)布(bu)制(zhi)備(bei),以及(ji)氫(qing)(qing)燃料電(dian)池膜(mo)電(dian)極(ji)、電(dian)解水制(zhi)氫(qing)(qing)膜(mo)電(dian)極(ji)、鋰電(dian)池、各種(zhong)活性(xing)(xing)催化劑、異(yi)質結太(tai)陽(yang)(yang)(yang)能(neng)電(dian)池、薄(bo)膜(mo)太(tai)陽(yang)(yang)(yang)能(neng)電(dian)池、鈣鈦礦(kuang)太(tai)陽(yang)(yang)(yang)能(neng)電(dian)池、有機太(tai)陽(yang)(yang)(yang)能(neng)電(dian)池、OLED柔性(xing)(xing)穿戴器件、有機場效(xiao)應晶體管(guan)(guan)(guan)(guan),導電(dian)聚(ju)合物,納米線和納米管(guan)(guan)(guan)(guan),二(er)維(wei)材料,有機發光二(er)極(ji)管(guan)(guan)(guan)(guan)和鈣鈦礦(kuang)發光二(er)極(ji)管(guan)(guan)(guan)(guan)、鈣鈦礦(kuang)光伏電(dian)池、鋰離子(zi)電(dian)池的電(dian)解質和電(dian)極(ji)、染色敏感性(xing)(xing)太(tai)陽(yang)(yang)(yang)能(neng)電(dian)池、電(dian)子(zi)皮(pi)膚等器件的制(zhi)備(bei)。
由于常(chang)規實驗室涂(tu)(tu)布(bu)試(shi)驗機,受到刮刀調(diao)節,底板(ban)平整(zheng)度(du)等的影(ying)響很難達(da)到涂(tu)(tu)布(bu)納米級膜,狹(xia)縫式涂(tu)(tu)布(bu)試(shi)驗機,底板(ban)采用檢(jian)驗級大理石平臺,同(tong)時采用非接觸(chu)式狹(xia)縫式涂(tu)(tu)布(bu)頭(tou),通過(guo)進料壓力,狹(xia)縫寬度(du)調(diao)節,以及狹(xia)縫頭(tou)與(yu)底板(ban)間(jian)隙三個因(yin)數控制濕膜厚度(du),同(tong)時軟件系統(tong)增加了高度(du)調(diao)節與(yu)反饋系統(tong),大大提高了涂(tu)(tu)布(bu)精度(du)與(yu)均(jun)勻性。在國內光學膜涂(tu)(tu)布(bu)實驗室研發打樣(yang)階段得到了廣泛的應用。
AT-XTB-1050A工藝研究涂布試驗機技術參數
1.狹縫擠出頭材質:不銹鋼
2.狹縫擠出(chu)頭(tou)涂布寬(kuan)度:10-50mm
3.狹縫擠出墊片(pian)厚度:100 μm
3.狹縫擠(ji)出墊(dian)片套裝:5 個(ge) 50毫米(mi)寬墊(dian)片或5 個(ge) 25毫米(mi)寬的墊(dian)片
4.電熱(re)板溫(wen)度:120°C
5.行程長度(du):10-100mm
6.平臺速度:100 μm.s-1
7.最(zui)高平臺速度:50 mm s - 1
8.注射器速度:12 μm.s-1
9.最高注(zhu)射速度(du):5 mm.s-1
10.涂布(bu)頭與(yu)基片(pian)之間最大(da)活動(dong)距離:13 mm
11.管道和接頭材質:聚四氟乙(yi)烯管,高密(mi)度PP魯(lu)爾接口(kou)鎖定連(lian)接器、不銹鋼(gang)魯(lu)爾接口(kou)連(lian)接器至螺紋(wen)連(lian)接件
12.電(dian)源(yuan)參數:100 - 240 V 50Hz
13.尺(chi)寸(cun)規格(ge):380 mm x 330 mm x 220 mm
14.重量:30kg
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